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国家知识产权局信息显示，美光科技公司申请一项名为“包含存储器垫边缘结构的设备”的专利，公开号CN121284959A，申请日期为2025年6月。
专利摘要显示，本申请案涉及包含存储器垫边缘结构的设备。本公开的一些实施例提供一种设备，其包括存储器垫，所述存储器垫包含存储器单元部分、邻近于所述存储器单元部分的虚设部分及邻近于所述虚设部分的边缘部分。所述存储器单元部分包含第一电容器结构、耦合到所述第一电容器结构的第一重布层结构及耦合到所述重布层结构的单元接触结构，且所述第一电容器结构通过所述第一重布层结构耦合到所述单元接触结构。所述虚设部分包含第二电容器结构及耦合到所述第二电容器结构的第二重布层结构。所述边缘部分包含最外电容器结构及耦合到所述最外电容器结构的导电层结构，且所述导电层结构在半导体衬底上高于所述第一及第二重布层结构的位置处。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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