北京
国家知识产权局信息显示，上海芯上微装科技股份有限公司申请一项名为“一种掩模台系统及曝光设备”的专利，公开号CN121254567A，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本发明提供了一种掩模台系统及曝光设备，掩模台系统包括掩模台本体和对准光源接合部；掩模台本体上设有沿竖直方向贯穿地延伸的通孔；对准光源接合部包括支架、接合载板和第一驱动部；支架设置在掩模台本体上；接合载板设置在支架上，并位于掩模台本体的上方，接合载板用于与对准光源连接；第一驱动部设置在支架上，并与接合载板连接，第一驱动部被配置用于驱使接合载板沿水平的X方向移动，以使接合载板靠近通孔以使对准光源位于通孔的上方或使接合载板远离通孔以使对准光源偏离通孔。掩模台系统可应用于具有大视场的曝光设备中，且能解决对准光源对物镜光源造成遮挡的问题，同时还可以提高曝光时的套刻精度。
天眼查资料显示，上海芯上微装科技股份有限公司，成立于2025年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本17531.5338万人民币。通过天眼查大数据分析，上海芯上微装科技股份有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目12次，专利信息1145条，此外企业还拥有行政许可19个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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