北京
国家知识产权局信息显示，中芯集成电路（宁波）有限公司申请一项名为“滤波器及其形成方法、以及电子设备”的专利，公开号CN121261663A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，一种滤波器及其形成方法、以及电子设备，形成方法包括：在边缘区的第一叉指电极材料层上形成凸立初始活塞结构；形成保形覆盖第一叉指电极材料层和初始活塞结构的第二叉指电极材料层;将叉指电极对应的预定图案转移至初始活塞结构、第一叉指电极材料层和第二叉指电极材料层上，通过第一叉指电极材料层和第二叉指电极材料层形成位于汇流区的汇流条、位于中心区和边缘区的电极指，并形成位于边缘区的电极指上的活塞结构；由于初始活塞结构位于第一叉指电极材料层上，且第一叉指电极材料层直接形成在基底上，活塞结构更靠近基底，有利于活塞结构与基底表面的声波相互作用，从而进一步抑制滤波器中的横向传播的声波，进而提高滤波器的机电耦合系数。
天眼查资料显示，中芯集成电路（宁波）有限公司，成立于2016年，位于宁波市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本473304.347718万人民币。通过天眼查大数据分析，中芯集成电路（宁波）有限公司参与招投标项目35次，财产线索方面有商标信息69条，专利信息494条，此外企业还拥有行政许可22个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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