国家知识产权局信息显示,唐纳森公司申请一项名为“过滤介质的原子层沉积”的专利,公开号CN121240913A,申请日期为2024年3月。
专利摘要显示,本发明提供了含有经涂布多孔基材的制品及其制造和使用方法。所述制品可以是过滤器介质。所述制品包括具有非反应性基础聚合物的多孔基材;置于基础聚合物的至少一部分上的反应性聚合物,所述反应性聚合物的表面能高于非反应性基础聚合物的表面能;和,置于反应性聚合物的至少一部分上的包括金属的化合物。可以使用气相沉积将化合物置于反应性聚合物上。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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