北京
分享至
国家知识产权局信息显示，唐纳森公司申请一项名为“过滤介质的原子层沉积”的专利，公开号CN121240913A，申请日期为2024年3月。
专利摘要显示，本发明提供了含有经涂布多孔基材的制品及其制造和使用方法。所述制品可以是过滤器介质。所述制品包括具有非反应性基础聚合物的多孔基材；置于基础聚合物的至少一部分上的反应性聚合物，所述反应性聚合物的表面能高于非反应性基础聚合物的表面能；和，置于反应性聚合物的至少一部分上的包括金属的化合物。可以使用气相沉积将化合物置于反应性聚合物上。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
