北京
国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“掩模版布局方法”的专利，公开号CN121232544A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明公开了一种掩模版布局方法，提供至少三层包含对准标识的光掩模版，光掩模版版图包括芯片区和切割道区，对准标识放置在切割道区，对准标识应包含透光和不透光部分，第1层掩模版的对准标识形成在第1层掩模版的位置一，第2层掩模版的对准标识形成在第2层掩模版的位置二，同时第2层掩模版的位置一形成有第1层掩模版的对准标识的反相标识，第3层掩模版的对准标识形成在第3层掩模版的位置一，同时第3层掩模版的位置二形成有第2层掩模版的对准标识的反相标识，后续层次依次类推。该掩模版布局方法，可以提高掩模版中切割道区的图形密度，有效降低化学机械研磨给对准标识造成的损伤，提高曝光对准精度，有利于降低生产成本。
天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2092次，专利信息2650条，此外企业还拥有行政许可397个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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