北京
国家知识产权局信息显示，无锡邑文微电子科技股份有限公司;江苏邑文微电子科技有限公司申请一项名为“一种硼污染ICP腔室的清洁方法”的专利，公开号CN121237626A，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本发明提供了一种硼污染ICP腔室的清洁方法，所述清洁方法包括以下步骤：（1）将热盘加热后，在ICP腔室中通入气态氟源和氧气达到平衡状态后，持续通入气态氟源和氧气，并开启上射频进行第一刻蚀处理；（2）在ICP腔室中持续通入氯气和氧气，并开启上射频进行第二刻蚀处理，完成清洁。本发明使用气态氟源作为清洁气体，利用生成物易挥发的特性对腔体中存在的硼脏污进行清洁，清洁的效果较好，同时在清洁完成后通入氯气稳定腔室环境，可以起到调节腔室阻抗、确保后续工艺一致性的作用。
天眼查资料显示，无锡邑文微电子科技股份有限公司，成立于2011年，位于无锡市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本36000万人民币。通过天眼查大数据分析，无锡邑文微电子科技股份有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目159次，财产线索方面有商标信息22条，专利信息376条，此外企业还拥有行政许可33个。
江苏邑文微电子科技有限公司，成立于2018年，位于南通市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本3333.33万人民币。通过天眼查大数据分析，江苏邑文微电子科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目3次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息223条，此外企业还拥有行政许可7个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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