北京
国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“套刻标识及其套刻误差量测方法”的专利，公开号CN121209221A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明涉及一种套刻标识及其套刻误差量测方法，该套刻标识被划分为第一象限区、第二象限区、第三象限区和第四象限区，套刻标识包括当层套刻结构和前层套刻结构，当层套刻结构和前层套刻结构的图案分别设置于四个象限区内，在每个象限区内，当层套刻结构包括间隔分布且相互平行的多个当层图形，前层套刻结构包括间隔分布且相互平行的多个前层图形；其中，位于同一象限区内的当层图形的延伸方向与前层图形的延伸方向平行；并且，位于同一象限区内的当层图形与前层图形在垂直于其延伸方向上的偏移量呈连续变化。通过将套刻标记的偏移量从固定值改为连续变化，可以有效提高信号强度，降低噪声干扰，提高量测灵敏度以及稳定性。
天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2092次，专利信息2640条，此外企业还拥有行政许可397个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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