北京
国家知识产权局信息显示，武汉华星光电技术有限公司申请一项名为“阵列基板及显示面板”的专利，公开号CN121218687A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本申请提供一种阵列基板及显示面板；该阵列基板包括衬底和设于衬底上的阵列层、平坦层、钝化层及像素电极，平坦层上开设有与薄膜晶体管对应的第一过孔，钝化层上开设有与第一过孔对应的第二过孔，像素电极通过第一过孔及第二过孔、与薄膜晶体管电连接，第二过孔的侧壁在衬底上的正投影，位于第一过孔的侧壁在衬底上的正投影的外侧；本申请通过利用一道工艺同时蚀刻钝化层和平坦层，利用钝化层的蚀刻精度制备平坦层上的过孔，减小了平坦层上的过孔的蚀刻难度，降低了显示设备的工艺难度，提高了显示设备的稳定性。
天眼查资料显示，武汉华星光电技术有限公司，成立于2014年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1191853.7749万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉华星光电技术有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目676次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可263个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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