昨天,一则关于上海微电子装备公司中标步进扫描式光刻机的消息,在网络上激起了不小的水花。
一台机器,1.09亿元的中标额,让不少关注芯片行业的人为之振奋,甚至带动了资本市场相关概念的波动。兴奋之余,一个最直接的问题也随之浮现:这台光刻机,到底有多厉害?它能造出我们心心念念的7nm芯片吗?
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很坦诚地说,如果抱着这个期待,恐怕要稍稍调整一下视线了。这台中标的步进扫描式光刻机,它的主战场并非芯片制造的前道环节——也就是那个在硅片上精细雕刻电路图、决定芯片制程先进与否的核心步骤。
它更主要的角色,是在芯片制造的“后半场”——封装环节发挥作用。业内通常称之为“后道光刻机”。
那么,它在技术队列里处于什么位置呢?这台设备属于KrF光刻机,采用248纳米波长的光源。
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在它之上,有采用193纳米波长的ArF光刻机(即我们常听到的DUV光刻机);
再往上,还有技术更复杂的浸润式ArFi光刻机;
而处于顶尖位置的,则是采用13.5纳米极紫外光的EUV光刻机,那是目前生产7纳米及以下尖端芯片的必需装备。
相比之下,这台248纳米光源的设备,单论技术的“先进程度”,确实算不上最前沿。
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从已披露的信息看,它的分辨率在110纳米左右。这个参数决定了,如果真要用它来直接制造芯片,大概能应对110纳米左右的工艺节点。
这与当今手机、电脑里使用的7纳米、5纳米芯片,存在代际上的差距。它的强项在于后道封装,比如实现Chiplet(芯粒)之间高精度的对准、重布线层的刻画以及凸点成型等,是提升2.5D/3D先进封装能力的关键工具之一。
既然如此,它的中标为何还能引起如此大的关注?其意义,恰恰不在于“炫技”,而在于“可用”和“替代”。
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当前,在全球光刻机市场上,ASML、尼康、佳能等国际巨头占据主导地位。
同类功能的设备,它们的售价往往超过3000万美元。而上海微电子的这台国产设备,中标价约1.1亿人民币,折合美元大约1500万,价格优势非常明显。这对于国内众多的芯片封装测试厂商来说,意味着多了一个可靠的、成本更低的选择。
所以,这台光刻机最大的价值,或许不是去与ASML在尖端制程的赛道上“掰手腕”——那需要时间、需要全产业链的持续突破。
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它的重要意义在于,在一个特定的、却至关重要的技术领域(先进封装),实现了国产装备的从无到有、从不可用到可用的突破,并且具备了实实在在的市场竞争力。它让国内企业能用更合理的价格,获得保障生产线的关键设备,减少了对外部供应链的绝对依赖。
中国芯片产业的自主化之路,注定是一场漫长而需要耐心的跋涉。它既需要仰望星空,攻克EUV那样的珠穆朗玛峰;也需要脚踏实地,这条路,每一步不管大小都算数。这台光刻机,正是坚实的一小步。
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