北京
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国家知识产权局信息显示，湖北光谷实验室、武汉华日精密激光股份有限公司申请一项名为“一种用于圆弧倒角切割的全息图生成方法和系统”的专利，公开号CN121091625A，申请日期为2025年8月。
专利摘要显示，本发明公开了一种用于圆弧倒角切割的全息图生成方法和系统，方法包括：完成参数配置、输入光场初始化及焦点与约束面设置。对当前轮次需优化的焦点与约束面，先通过傅里叶变换得原焦点光场分布，再根据仿真与DOE精度扩充输入光场矩阵。沿光轴正向从最远开始计算各约束面实际光场，与理想强度对比生成加权修正矩阵并判断收敛，再依次处理更近约束面。将修正后的各约束面光场沿光轴反向传播至原焦点，经逆傅里叶变换得反向输入光场，平均后提取相位与原振幅结合生成新输入光场。重复迭代，直至所有预设焦点光场计算完成，输出最终DOE相位分布。满足圆弧倒角加工的精细需求。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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