北京
国家知识产权局信息显示，光本位智能科技（上海）有限公司申请一项名为“一种基于透光基板的光波导制备方法及光波导”的专利，公开号CN121050024A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本发明涉及光子计算领域，具体公开了一种基于透光基板的光波导制备方法及光波导，其中该方法包括步骤：S101，在透光基板的第一表面上沉积掩护层；S102，在掩护层的第二表面上依次沉积波导层和压印胶层；S103，利用压印软模版对压印胶层进行压印，使得压印胶层上形成压印图案；S104，基于压印图案对压印后凹槽内的残留层进行刻蚀；S105，基于压印图案对波导层进行过刻蚀，得到图案化的波导层；S106，去除压印胶层，得到图案化的波导层；S107，在图案化的波导层上沉积覆盖层，使得覆盖层与掩护层将波导层进行包裹。进一步地，掩护层分别采用不同的沉积工艺分别沉积得到具有平坦表面的双层结构。
天眼查资料显示，光本位智能科技（上海）有限公司，成立于2022年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本328.8242万人民币。通过天眼查大数据分析，光本位智能科技（上海）有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目4次，专利信息49条，此外企业还拥有行政许可6个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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