北京
国家知识产权局信息显示，安徽熙泰智能科技有限公司申请一项名为“一种多层ITO阳极制备工艺”的专利，公开号CN121038571A，申请日期为2025年8月。
专利摘要显示，本发明公开了一种多层ITO阳极制备工艺，包括以下步骤：S1、HMG膜层制作；S2、进行光刻胶作业；S3、干法刻蚀去胶作业；S4、进行HMG两层ITO沉积；S5、两层ITO表面进行光刻刻蚀作业；S6、用有机溶液进行浸泡，将有机材料溶解剥离；S7、HMB、HMR膜层制作；在步骤S6基础上再蒸镀有机材料，之后沉积氮化硅\氧化硅\金属材料三者选其一，重复步骤S2和步骤S3进行处理；S8、沉积一层ITO；S9、ITO表面进行光刻刻蚀作业；S10、用有机溶液进行浸泡，最后将剩下有机材料溶解剥离，利用湿法剥离蒸镀有机材料层得到HMB、HMR。通过湿法刻蚀进行剥离达到像素ITO沉积三次减少至两次工艺，减少ITO沉积侧壁避免侵占SPACE空间，去除ITO残留和SPACE里的形貌有凸起现象，提高良品率。
天眼查资料显示，安徽熙泰智能科技有限公司，成立于2016年，位于芜湖市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本26191.47万人民币。通过天眼查大数据分析，安徽熙泰智能科技有限公司共对外投资了9家企业，参与招投标项目46次，财产线索方面有商标信息9条，专利信息467条，此外企业还拥有行政许可10个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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