来源:滚动播报
三星电子公布了其即将推出的2nm芯片工艺的首批性能数据,标志着该公司将更加积极地推进下一代晶圆代工制造,以缩小与台积电的差距。三星宣布,其首代2nm工艺采用了全栅极环绕(GAA)晶体管技术,相比第二代3nm工艺,性能提升5%,功耗效率提高8%,芯片面积缩小5%。这是三星首次发布2nm的具体规格,此前仅出现概念性描述。台积电目前掌控全球晶圆代工市场超过70%的份额,而三星约为7%。大多数分析师预计,由于台积电产量高、生产稳定、以及AI加速器和数据中心芯片需求不断增长,其领先地位将持续。然而,韩国业内人士表示,从2nm节点开始,竞争可能会加剧。
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