化学气相沉积(CVD)工艺专用氩气检测仪方案-深国安

在化学气相沉积(CVD)工艺中，氩气(Ar)作为载气负责输送反应气体(如硅烷、氨气)，同时作为保护气隔绝空气，其纯度(≥99.999%)与稳定供应直接决定薄膜沉积的均匀度与晶圆电学性能。若氩气纯度不足(含氧量 / 水分超标)或发生泄漏，会导致薄膜掺杂氧化杂质、反应腔室压力异常，甚至引发硅烷等可燃气体爆炸风险。深国安新技术针对 CVD 工艺特性，推出专用氩气检测仪方案，通过 “高精度检测 + 智能联动”，为 CVD 工艺氩气安全管控提供全流程解决方案。

化学气相沉积(CVD)工艺专用氩气检测仪

一、方案核心技术：深国安专项研发优势

(一)高精度传感技术，适配 CVD 工艺微痕量检测需求

深国安专用氩气检测仪采用进口热传导传感技术，突破传统检测技术的精度瓶颈：

纯度检测：针对氩气中微含量检测(0-10VOL)，分辨率达 0.1VOL，检测精度≤±3% F.S.，可精准识别氩气纯化系统失效导致的纯度下降(如氧含量从 5ppm 升至 20ppm)，避免薄膜氧化缺陷;

泄漏检测：集成常规氧检测模块(0-25% VOL)，T90 响应时间≤10秒，氩气泄漏时通过氧浓度下降反向精准判断泄漏量，解决氩气无色无味难监测的痛点;

抗干扰设计：内置气体交叉干扰算法，可过滤硅烷、氨气等 CVD 工艺气体对检测的影响，确保复杂气体环境下数据可靠。

化学气相沉积(CVD)工艺专用氩气检测仪

(二)严苛环境适配，满足 CVD 车间工况要求

基于 CVD 工艺车间高温、高洁净、腐蚀性的环境特点，深国安SGA-501氩气检测仪在结构与防护上专项优化：

1.洁净与防腐：机身采用 316L 不锈钢 + 特氟龙涂层，通过 Class 100 级洁净认证，无颗粒脱落污染晶圆;采样管路选用 PTFE 材质，耐反应气体残留腐蚀，避免管路老化影响检测精度;

2.温湿度耐受：工作温度覆盖 - 20℃-70℃，可适配 CVD 腔室周边 50℃-60℃的局部高温环境;湿度 30%-95% RH(无冷凝)下，通过防潮透气膜设计阻断水汽侵入，检测误差≤±0.3% F.S.;

3.防爆安全：防爆等级达 Ex d IIB T6 Ga，符合 CVD 车间潜在可燃气体环境的安全要求，避免电火花引发风险。

化学气相沉积(CVD)工艺专用氩气检测仪

二、方案部署：全流程覆盖 CVD 氩气管控场景

(一)氩气供应端：纯度与泄漏双重监测

纯化系统出口：在氩气纯化系统出口管路安装深国安在线式氩气检测仪(管道式安装)，实时监测纯化后氩气的氧含量、水分，当纯度低于 99.999%(氧含量≥10ppm / 水分≥5ppm)时，自动触发纯化系统备用滤芯切换，确保原料气质量;

气瓶间 / 储罐区：在氩气储罐周边、气瓶接头处部署检测仪，采用扩散式采样，监测氩气泄漏(泄漏时氧浓度≤20.0% VOL 即预警)，联动气瓶间排风系统，避免泄漏积聚导致缺氧。

化学气相沉积(CVD)工艺专用氩气检测仪

(二)工艺应用端：CVD 设备周边精准监测

反应腔室入口：在氩气进入 CVD 腔室的管路阀门后安装检测仪，采用泵吸式采样(采样流量 500mL / 分钟)，实时监测进入腔室的氩气纯度，避免管路污染导致的纯度波动，保障反应气体配比稳定;

设备周边与夹层：在 CVD 设备两侧、底部夹层等人工巡检盲区，部署深国安便携式氩气检测仪(搭配巡检人员)或集成至巡检机器狗，重点监测氩气泄漏，尤其关注腔室密封件、管路接头等易泄漏部位，泄漏浓度超标时立即暂停设备运行。

化学气相沉积(CVD)工艺专用氩气检测仪

(三)智能联动：构建 “检测 - 处置 - 追溯” 闭环

深国安氩气检测仪方案配套SG-6000 气体监控平台，实现全流程智能管控：

1.实时监控：平台支持电脑端、手机 APP 多终端访问，动态显示各监测点氩气纯度、泄漏浓度、设备状态，生成浓度变化曲线与车间风险热力图;

2.分级报警：当氩气纯度不达标(一级预警)时，平台推送短信至工艺员;泄漏导致氧浓度≤19.5% VOL(二级报警)时，自动切断氩气供应阀门，启动区域排风与应急广播;

3.数据追溯：自动存储 1 年以上检测数据，支持按 CVD 工艺批次查询对应时段的氩气参数，满足半导体行业合规审计要求(如 SEMI S2 标准)，便于工艺异常追溯。

化学气相沉积(CVD)工艺专用氩气检测仪

三、方案价值：深国安技术赋能 CVD 工艺升级

1.工艺质量保障：通过氩气纯度精准管控，避免氧化杂质导致的薄膜电阻率异常、附着力下降，薄膜沉积良率提升 15%-20%;

2.安全风险降低：实现氩气泄漏 “早发现、快处置”，泄漏响应时间从传统人工巡检的 30 分钟缩短至 5 分钟，人员缺氧暴露风险降低 90%;

3.运维效率提升：在线式检测与智能联动减少人工干预，纯化系统、排风系统的自动化调控降低运维工作量，单条 CVD 生产线年节省人工成本约 12 万元;

4.合规达标：检测数据与监控平台满足 GB/T 10624-2022《高纯氩》、SEMI S2 等标准要求，助力企业顺利通过行业安全与质量审计。

化学气相沉积(CVD)工艺专用氩气检测仪

深国安新技术凭借在气体检测领域 15 年的技术积累，针对 CVD 工艺氩气管控的痛点，通过专项研发的高精度SGA-501氩气检测仪与智能监控方案，为半导体薄膜沉积工艺提供稳定、可靠的氩气安全保障，目前已在国内 20 余家 12 英寸晶圆厂、30 余条 CVD 生产线应用，成为半导体 CVD 工艺气体管控的优选方案。