沙财联社10月21日电,特阿卜杜拉国王科技大学研究人员在微芯片设计领域创下新纪录,成功研制出全球首个面向大面积电子器件的6层堆叠式混合互补金属氧化物半导体(CMOS)芯片。此前公开报道的混合CMOS堆叠层数从未超过两层,这一突破标志着芯片集成密度与能效迈上新台阶,有助电子设备的小型化和性能提升。
特别声明:以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布,本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.