广东
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案例：电子厂半导体车间酸性废气治理
项目背景
华南某半导体封装测试工厂，在芯片蚀刻、清洗工序中产生强酸性废气。原有碱液喷淋塔处理效果不稳定，设备腐蚀严重，急需升级改造。
废气成分及来源
废气主要含有：
无机酸气：HF（氟化氢）、HCl（氯化氢）、HNO₃（硝酸）
浓度波动大：HF 50-200mg/m³，HCl 80-400mg/m³
产生于：
晶圆蚀刻工序：使用氢氟酸混合溶液
设备清洗环节：盐酸与硝酸混合液清洗
处理工艺流程
采用"两级洗涤+除雾+智能化控制"系统：
一级碱洗塔
：pH值11-12的NaOH溶液循环喷淋，去除大部分酸性成分
二级氧化洗涤
：添加次氯酸钠氧化剂，分解难处理污染物
高效除雾器
：PP材质丝网除雾器，去除粒径＞5μm的液滴
在线监测系统
：实时调节加药量与风机转速，确保处理效率
关键设计参数：
空塔流速1.2m/s
液气比3:
填料层高度2.5m
最终效果
改造后运行数据：
HF去除率99.2%，排放浓度＜1mg/m³
HCl去除率98.7%，排放浓度＜5mg/m³
药剂消耗量降低40%
设备使用寿命从2年延长至5年以上
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