一种装在特制容器里的透明液体,看起来平平无奇,却是芯片生产中缺一不可的 “关键材料”,这种东西就是光刻胶。
而全球范围内,光刻胶90% 都由日本企业生产。
一旦日本停止供应,不止中国,全世界的半导体产业都将面临挑战。
为什么光刻胶会被日本垄断,其他国家想自己生产就这么难吗?
面对可能的断供风险,中国又在做哪些准备?
日本光刻胶的 “护城河”
提到芯片制造,人们往往会想到光刻机,却很少关注光刻胶。
不过,光刻胶也是非常重要的物品,它与光刻机就像 “笔与纸”,没有合适的光刻胶,再先进的光刻机也无法在硅片上 “画出” 电路。
就是这样一种关键材料,日本企业用几十年时间,筑起了一道难以逾越的 “护城河”,让其他国家很难追上。
技术壁垒和专利垄断是其他国家企业面临最大的难题,光刻胶的生产,远不止 “混合几种化学原料” 那么简单。
它需要精准搭配感光树脂、增感剂、溶剂等多种成分,每种成分的比例、纯度都有严苛要求,比如溶剂中的金属杂质含量,必须控制在 ppm(百万分之一)级别以下,稍有偏差就会影响芯片质量。
而日本企业从 20 世纪 70 年代就开始深耕这一领域,像信越化学、JSR、东京应化这些龙头企业,早已掌握了核心配方,并且申请了大量专利。
据行业数据显示,在高端 EUV 光刻胶领域,日本企业的专利申请量占比高达 90%,其他国家想研发,很容易触碰专利壁垒。
并且,就算掌握了核心配方,企业想投产,产业链配套和验证周期也长到 “让人却步”。
光刻胶不是孤立存在的,它需要与光刻机的技术参数完美匹配,不同型号的光刻机,对光刻胶的分辨率、感光速度要求不同,甚至需要 “量身定制”。
而全球先进光刻机主要由荷兰 ASML 生产,日本企业通过长期合作,早已实现了光刻胶与光刻机的 “无缝衔接”,
其他国家想跟进,不仅要突破光刻胶本身的技术,还得与光刻机厂商磨合,这个过程很漫长,往往需要数年。
更关键的是,光刻胶研发出来后,还需要经过芯片企业的 “验证”,比如台积电、三星这样的大厂,会对光刻胶的稳定性、良率进行长期测试,一旦出现问题,就很难再获得信任。
这种验证周期,短则 1-2 年,长则 3-5 年,很多企业根本耗不起。
另外,日本在化学和材料科学领域的积累,是出了名的具有优势,其他国家一时之间,也难以企及。
光刻胶本质上是精细化工产品,而日本在精细化工领域有着深厚的底蕴,从基础化工原料到高端材料合成,整个产业链非常完善。
比如光刻胶常用的溶剂丙二醇甲醚醋酸酯(PMA),全球主要生产商也集中在日本、美国等少数国家,且日本企业在纯度控制上更具优势。
这种全产业链的协同能力,也是日本产业护城河的一种。
在销售上,日本企业也有一些小心机,那就是有意的进行“捆绑策略”。
为了巩固垄断地位,日本企业常常将光刻胶与其他半导体材料(比如光刻胶配套的显影液、剥离液)捆绑销售,甚至与光刻机厂商达成合作,优先为使用自家光刻胶的客户提供技术支持。
这种策略让下游芯片企业很难轻易更换供应商,进一步加固了日本企业在这一行业的地位。
也正是因为这些原因,尽管很多国家都想打破日本的垄断,却始终进展缓慢。
比如韩国,2019 年日本曾对韩国断供光刻胶,导致三星、SK 海力士的生产线一度面临停产风险,韩国政府紧急投入巨资扶持本土企业,可直到 2024 年,韩国光刻胶的国产化率仍不高。
这也从侧面说明,在这一行业超过日本企业,是很有难度的一件事。
中国如何破局?
虽然打破日本的垄断是比较有难度的一件事,不过依赖单一来源风险太高,中国一直在想办法解决这个问题。
近年来,从企业到科研机构,都在光刻胶领域默默发力,试图撕开一道 “突破口”,而 2024 年太紫薇公司的出现,让这份努力看到了成果。
在此之前,中国光刻胶的依赖度确实很高,90% 以上需要进口,其中日本是主要来源。
虽然中国企业在半导体领域取得了阶段性进展,但光刻胶的 “卡脖子” 问题,始终是悬在头上的 “利剑”。
日本对韩国的断供案例,是一种警钟,一旦太依赖某个企业,那么供应链中断,就只能任人予取予求。
为了改变这一现状,国内不少企业早已开始布局。
比如南大光电、晶瑞股份这些本土龙头,多年前就投入研发光刻胶,虽然与日本企业还有差距,但也在中低端光刻胶领域实现了部分替代,为高端产品研发积累了经验。
真正的突破,来自太紫薇公司。
这家成立时间不长的企业,在短短几个月内就传出好消息:
自主研发的 T150A 光刻胶,成功通过了国内芯片企业的量产验证,不仅配方完全自主设计,极限分辨率还达到 120nm,优于国外同系列的 KrF 光刻胶产品。
要知道,KrF 光刻胶主要用于 28nm-90nm 工艺节点的芯片生产,是当前市场需求较大的品种,太紫薇的突破,意味着中国在这一领域终于摆脱了对进口的完全依赖。
太紫薇的成功,是因为公司背后有科研支撑,法定代表人朱明强是华中科技大学的教授,长期从事半导体材料研究,研发团队也大多来自高校和行业资深人士。
他们从基础研究入手,一点点优化材料配方,改进生产工艺,甚至为了控制杂质含量,专门搭建了无尘生产车间。
这种 “从 0 到 1” 的攻关,是在为中国光刻胶的国产化打开了一扇门。
除了企业的努力,政策支持也为光刻胶研发注入了动力。
这些年,中国将半导体材料纳入 “重点支持的战略性新兴产业”,不仅提供资金补贴,还推动科研机构与企业合作,比如中科院化学研究所就与多家企业共建实验室,共享技术成果。
这种 “产学研结合” 的模式,加快了技术转化的速度,让更多研发成果能够落地。
不过,虽然有了一定成果,也得清醒地认识到,打破垄断不是 “一步到位” 的事。
目前太紫薇的突破主要集中在中高端光刻胶领域,在更先进的 EUV 光刻胶方面,中国与日本还有不小的差距。
而且,光刻胶的国产化,还需要整个产业链的配合,比如光刻机的配套、原材料的供应等,这些都需要时间去完善。
但太紫薇的突破,已经让中国在光刻胶领域看到了 “自主可控” 的希望,也为其他企业树立了榜样。
光刻胶的国产化,不仅仅是 “避免断供” 那么简单,更关联着中国半导体产业链的安全和全球竞争力。
要知道,中国是全球最大的芯片消费市场,每年需要进口大量芯片,而光刻胶的依赖进口,就像在产业链上安了一颗 “定时炸弹”。
一旦外部供应中断,不仅芯片生产会受影响,下游的手机、汽车、家电等行业也会跟着 “遭殃”。
太紫薇等企业的突破,不仅打破了日本的垄断,更提升了中国半导体产业链的 “韧性”。
当国内企业能够自主生产光刻胶,就不必再看别人的脸色,也能在与国外企业的合作中拥有更多话语权。
光刻胶的研发没有终点,随着芯片工艺向 3nm、2nm 甚至更先进的节点发展,对光刻胶的要求会越来越高,中国企业还需要持续投入研发,才能追赶并超过国际先进水平。
日本企业能在这个行业占据优势,是“专注” 和 “坚持”的结果,可中国企业突破,也是有自己的成功方法,那就是找准方向、持续发力。
只要这样做,再深的 “护城河” 也能跨过。
参考资料:
日本要用贸易制裁解决日韩争端,2019-07-08 05:25·,中国青年网
日本光刻胶市场地位:是否真的坚不可摧?,2024-05-16 10:11·,中国电子报
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