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金融界2025年8月26日消息，国家知识产权局信息显示，应用材料股份有限公司申请一项名为“使用氯共同气体控制分解累积的离子源”的专利，公开号CN120548586A，申请日期为2023年12月。
专利摘要显示，揭示一种用于产生包含铝离子的离子束的离子源。所述离子源包括将有机铝化合物引入至离子源的电弧室中的第一气体源。亦向电弧室引入与第一气体不同的第二气体(其为含氯气体)。氯化物共同气流会减少在电弧室内发生的分解材料的累积。此种累积可能发生于气体套管、提取孔口处或推斥极附近。在一些实施例中，连续地引入第二气体。在其他实施例中，基于运作的小时数或所提取离子束的所测量均匀性而周期性地引入第二气体。可自第二气体源或自气化器引入第二气体。
本文源自：金融界
作者：情报员
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