金融界2025年8月12日消息,国家知识产权局信息显示,罗姆股份有限公司申请一项名为“半导体装置”的专利,公开号CN120476681A,申请日期为2024年01月。
专利摘要显示,本发明的半导体装置包括:具有第一主面以及第二主面的SiC芯片;形成于第一主面的元件结构;以及形成于第二主面且与元件结构电连接的电极,第二主面的算术平均粗糙度(Ra)为30nm以上。由此,能够在与元件结构相反侧的第二主面形成低电阻的欧姆接触。
本文源自:金融界
作者:情报员
特别声明:以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布,本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.