北京
分享至
金融界2025年8月8日消息，国家知识产权局信息显示，布莱克半导体荷兰有限公司申请一项名为“衬底保持器”的专利，公开号CN120457239A，申请日期为2023年12月。
专利摘要显示，一种保持器，用于在化学气相沉积CVD加工期间固持衬底，该保持器具有：‑第一表面，该第一表面被配置成形成用于该衬底的暴露表面的对置表面；‑第二表面，该第二表面基本上平行于该对置表面并且布置在距该对置表面一定距离d处，该第二表面被布置用于支撑该衬底；‑第三表面，该第三表面被布置成与该第二表面成一定角度，该第三表面形成限制该衬底的移动的边缘。
本文源自金融界
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
