北京
金融界2025年7月30日消息，国家知识产权局信息显示，拓荆科技（上海）有限公司取得一项名为“一种多通路混气装置及半导体设备”的专利，授权公告号CN223159119U，申请日期为2024年10月。
专利摘要显示，本实用新型公开了一种多通路混气装置及半导体设备。多通路混气装置包括：混气主体、多个气体通道和出气通道；混气主体内部设有混气腔；多个气体通道开设于混气主体内部且环绕混气主体的中心分布，多个气体通道的一端均为进气端，多个气体通道的另一端均连通混气腔且朝向混气腔的中心；出气通道的一端连通混气腔，出气通道的另一端为出气端。本实用新型有效地解决了不同种类的气体混气不均匀的问题；气体在经过本实用新型的多通路混气装置时可进行气体对冲，因此不同气体能在混气腔内进行充分混合，再由出气通道流入下一环节中。
天眼查资料显示，拓荆科技（上海）有限公司，成立于2020年，位于上海市，是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本143253.79万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆科技（上海）有限公司参与招投标项目20次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息279条，此外企业还拥有行政许可29个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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