北京
金融界2025年7月16日消息，国家知识产权局信息显示，深圳市铭德自动化设备有限公司申请一项名为“基于TGV上物理气相沉积（PVD）的高精度自动掩膜装置”的专利，公开号CN120311139A，申请日期为2025年04月。
专利摘要显示，本发明涉及基于TGV上物理气相沉积(PVD)的高精度自动掩膜装置，包括下机架以及顶部的上机架，所述下机架与所述上机架的内部左侧设置有上工作台板，所述下机架与所述上机架的内部右侧设置有右平台底架，所述右平台底架的顶部设置有右平台结构，所述上工作台板的顶部设置有左平台结构，所述上机架的顶部悬挂有相机架，所述相机架的底部固定安装有上相机，所述上工作台板的底部固定安装有下相机，所述下机架的顶部设置有用于带动上工作台板水平滑动的移动结构。该基于TGV上物理气相沉积(PVD)的高精度自动掩膜装置，通过上相机配合下相机将上工作台板顶部的上掩膜板与下掩膜板进行校对，从而来达到高效校对，精度高，解决双面掩膜同步对位的效果。
天眼查资料显示，深圳市铭德自动化设备有限公司，成立于2016年，位于深圳市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市铭德自动化设备有限公司参与招投标项目1次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息13条，此外企业还拥有行政许可8个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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