北京
金融界2025年7月14日消息，国家知识产权局信息显示，上海新微技术研发中心有限公司申请一项名为“刻蚀线宽调控方法、微测辐射热计支撑腿结构的制备方法”的专利，公开号CN120296962A，申请日期为2025年03月。
专利摘要显示，本发明提供刻蚀线宽调控方法、微测辐射热计支撑腿结构的制备方法，包括步骤100、建立三维预测模型，在晶圆上采用n种曝光能量E_i进行光刻，形成n组光刻图形并测量光刻线宽CD_i；对每组图形进行预刻蚀，测量预刻蚀线宽CD'_i；再施加m种调控时间T_j进行正式刻蚀，测量刻蚀线宽CD”_i；基于E_i、T_j、CD'_i及CD”_i的映射关系，构建“曝光能量‑调控时间‑线宽”的三维预测模型。步骤200、实际应用，分为预刻蚀和正式刻蚀，对晶圆进行光刻和预刻蚀，获取CD_x和CD'_x；将CD_x和CD'_x输入模型，以目标刻蚀线宽CD_T为约束，输出刻蚀时间T_y；按T_y进行正式刻蚀，得到最终刻蚀线宽。该方法可及时修正线宽偏差，确保刻蚀线宽满足设计要求，避免产品性能下降或失效。
天眼查资料显示，上海新微技术研发中心有限公司，成立于2013年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本144416万人民币。通过天眼查大数据分析，上海新微技术研发中心有限公司共对外投资了21家企业，参与招投标项目477次，财产线索方面有商标信息52条，专利信息702条，此外企业还拥有行政许可44个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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