金融界2025年7月14日消息,国家知识产权局信息显示,上海新微技术研发中心有限公司申请一项名为“刻蚀线宽调控方法、微测辐射热计支撑腿结构的制备方法”的专利,公开号CN120296962A,申请日期为2025年03月。
专利摘要显示,本发明提供刻蚀线宽调控方法、微测辐射热计支撑腿结构的制备方法,包括步骤100、建立三维预测模型,在晶圆上采用n种曝光能量E_i进行光刻,形成n组光刻图形并测量光刻线宽CD_i;对每组图形进行预刻蚀,测量预刻蚀线宽CD'_i;再施加m种调控时间T_j进行正式刻蚀,测量刻蚀线宽CD”_i;基于E_i、T_j、CD'_i及CD”_i的映射关系,构建“曝光能量‑调控时间‑线宽”的三维预测模型。步骤200、实际应用,分为预刻蚀和正式刻蚀,对晶圆进行光刻和预刻蚀,获取CD_x和CD'_x;将CD_x和CD'_x输入模型,以目标刻蚀线宽CD_T为约束,输出刻蚀时间T_y;按T_y进行正式刻蚀,得到最终刻蚀线宽。该方法可及时修正线宽偏差,确保刻蚀线宽满足设计要求,避免产品性能下降或失效。
天眼查资料显示,上海新微技术研发中心有限公司,成立于2013年,位于上海市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本144416万人民币。通过天眼查大数据分析,上海新微技术研发中心有限公司共对外投资了21家企业,参与招投标项目477次,财产线索方面有商标信息52条,专利信息702条,此外企业还拥有行政许可44个。
本文源自:金融界
作者:情报员
特别声明:以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布,本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.