北京
金融界2025年7月4日消息，国家知识产权局信息显示，拉普拉斯（西安）科技有限责任公司取得一项名为“温控装置和反应炉”的专利，授权公告号CN223061083U，申请日期为2024年09月。
专利摘要显示，本公开涉及半导体和光伏技术领域，尤其涉及一种温控装置和反应炉，解决了沉积薄膜的过程中，由于加热件使炉腔和承载件的温度持续升高，导致炉腔和承载件的温度不能恒定的问题。温控装置包括加热件、至少一组降温组件和调节组件，加热件至少部分伸入炉腔内，加热件被配置为使炉腔内的温度升高；降温组件至少部分活动连接于炉腔内，降温组件被配置为对炉腔和承载件中的至少一者降温；调节组件与降温组件连接，调节组件能够调节降温组件的降温速度，以使炉腔和承载件的温度维持在预设温度。本公开提供的温控装置和反应炉，能够使炉腔和承载件的温度维持恒定，以提高对片材的加工精度。
天眼查资料显示，拉普拉斯（西安）科技有限责任公司，成立于2022年，位于西安市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本3000万人民币。通过天眼查大数据分析，拉普拉斯（西安）科技有限责任公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目2次，专利信息57条，此外企业还拥有行政许可1个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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