上海
IWAPS 2025
第九届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）将于10月14-15日在深圳隆重举行！本次研讨会由中国集成电路创新联盟、中国光学学会主办，中国科学院微电子研究所、深圳市半导体与集成电路产业联盟（深芯盟）、南京诚芯集成电路技术研究院有限公司联合承办，诚邀全球业界精英共赴这场光刻技术领域的学术盛宴！
国际先进光刻技术研讨会（IWAPS），依托中国创新沃土，搭建全球交流平台。在国内外光刻专家的鼎力支持下，在全球企业、高校、协会等的共同推动下，IWAPS持续构建覆盖光刻设备、工艺制程、计量检测、掩模材料、计算光刻、系统协同优化及新型技术等全产业链的尖端技术对话平台。
本届盛会特别依托深芯盟的产业集群优势，汇聚深圳及湾区半导体企业、高校与科研机构的协同力量；同时联动湾芯展的产业生态资源，为全球领军企业提供展示创新蓝图的舞台，为科研院所搭建核心技术攻关的交流通道，为青年学者创造技术思辨的活跃氛围，更为投资机构提供洞察粤港澳大湾区半导体机遇的前瞻窗口。
第九届IWAPS计划于
2025年10月14-15日于深圳举行
请于10月13日报到
欢迎各位学术和产业届的朋友莅临指导，积极投稿演讲
SPIE（国际光学工程学会）成立于1955年，是一个致力于光学和光电子学的国际专业组织。总部位于美国华盛顿州贝灵厄姆，SPIE的使命是推进光学和光电子技术的科学、应用、教育和商业。SPIE每年举办多个国际会议和展览，为科学家、工程师和企业提供展示最新研究成果和技术的平台。此外，SPIE Digital Library是全球最大的光学和光电子学文献数据库之一，提供了丰富的学术期刊、会议论文集和书籍，覆盖光学、光电子学、激光技术、生物医学光学等领域。这些资源和活动不仅促进了全球光学和光电子学的发展，也推动了创新技术的应用和专业人才的培养。
本届IWAPS接收论文将被送检SPIE Digital Library及EI。欢迎大家踊跃报名！
征稿范围
i. Optical Lithography
ii. Emerging Patterning Technologies
iii. Metrology, Inspection and Testing
iv. Computational Lithography
v. Design and Technology Co-optimization and Design for Manufacturability
vi. Materials
vii. Process
征稿要求
摘要要求
摘要必须清楚地描述论文的性质、研究主题、研究内容、组织结构、要点以及研究意义。且用英文撰写。
摘要必须包括以下内容：论文标题、关键词、作者的姓名、所属单位、邮件地址和通讯地址。摘要的字数不应超过500个单词。对研究内容的细节的描述将增加稿件被接收的可能。同时，我们强烈建议在提交的摘要中使用图表。
摘要截至日期：2025年7月31日
摘要提交邮箱：iwaps_program@ime.ac.cn
摘要录用通知日期：2025年8月21日
全文要求
论文摘要被接收后，作者需要按照全文模板的要求提交最终论文。论文全文模板参考SPIE会议标准模板。论文投稿方式待系统开通后公布（将使用SPIE投稿系统，请务必注意时间节点）。若有问题，欢迎联系会务邮箱：iwaps_program@ime.ac.cn。
本届会议论文将被送检SPIE Digital Library及EI，请务必在截止日期前投稿全文，否则不予送检，请严格参考模板格式。
全文提交截止日期 2025年9月30日
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