北京
金融界2025年6月11日消息，国家知识产权局信息显示，武汉帝尔激光科技股份有限公司取得一项名为“一种激光晶体冷却装置”的专利，授权公告号CN222966497U，申请日期为2024年08月。
专利摘要显示，本申请提出一种激光晶体冷却装置，包括沿z方向依次设置的水冷板、晶体底座和晶体压块，激光晶体沿x方向置于晶体底座和晶体压块之间形成的容纳腔内；水冷板内沿x方向设有进水通道和出水通道，晶体底座内沿y方向设有第一水道和第二水道，晶体压块内沿x方向设有第三水道和第四水道，且两者位于激光晶体的两侧，第一水道与进水通道、第三水道、第四水道及第二水道与出水通道、第三水道、第四水道之间均通过连接通道连通，以有效吸收激光晶体的热量，实现快速、均匀地对激光晶体散热，适用于大功率固体激光器，且各连接通道在水冷板与晶体底座之间、晶体底座与晶体压块之间均设有密封件，以防冷却介质泄露。
天眼查资料显示，武汉帝尔激光科技股份有限公司，成立于2008年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本27355.9743万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉帝尔激光科技股份有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目34次，财产线索方面有商标信息5条，专利信息455条，此外企业还拥有行政许可36个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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