北京
分享至
金融界2025年6月2日消息，国家知识产权局信息显示，南京华东电子真空材料有限公司申请一项名为“一种低温激活的吸气薄膜及其生产方法”的专利，公开号CN120060782A，申请日期为2025年03月。
专利摘要显示，本发明涉及电子元件材料领域，公开了一种低温激活的吸气薄膜及其生产方法，包括：吸气层，吸气层的材质为钛锆钇合金薄膜，钛锆钇合金薄膜为通过钛原子、锆原子以及设定量的钇原子在基底表面沉积所产生的膜；吸气层的基底为不锈钢、可伐、硅、锗或陶瓷；吸气层通过磁控溅射工艺制备，吸气层的膜厚为0.1微米到10微米，吸气层中包括有晶粒，晶粒的尺寸为5到300纳米。
本文源自：金融界
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
