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金融界2025年5月27日消息，国家知识产权局信息显示，易安爱富科技有限公司、爱思开海力士有限公司申请一项名为“氮化硅膜蚀刻用组合物”的专利，公开号CN120041207A，申请日期为2024年11月。
专利摘要显示，本公开涉及一种氮化硅膜蚀刻用组合物，相对于氧化硅膜，其对氮化硅膜的蚀刻选择比十分优异，并且具有防止氧化硅膜的异常生长的发生、抑制影响半导体器件特性的颗粒的产生、并且气泡产生高度非常小的优异效果。
本文源自：金融界
作者：情报员
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