北京
金融界2025年5月24日消息，国家知识产权局信息显示，合肥新美材料科技有限责任公司申请一项名为“一种低透湿率PMMA光学膜及其制备方法、偏光片”的专利，公开号CN120025649A，申请日期为2025年02月。
专利摘要显示，本发明提供一种低透湿率PMMA光学膜及其制备方法、偏光片，所述低透湿率PMMA光学膜的制备原料按照重量份数计，包括如下组分：改性绢云母6～8份；甲基丙烯酸甲酯80～100份；含氯苯乙烯单体8～12份；有机溶剂8～12份；引发剂0.05～0.08份；所述改性绢云母包括硅烷‑聚乙二醇‑马来酰亚胺改性的绢云母。本发明将硅烷‑聚乙二醇‑马来酰亚胺改性的绢云母与甲基丙烯酸甲酯、含氯苯乙烯单体共聚，可以向聚甲基丙烯酸甲酯高分子链中引入接枝硅烷‑聚乙二醇‑马来酰亚胺的绢云母以及苯环和氯取代基，其疏水性能提升；绢云母改性后，疏水性提升，并且其片层结构在膜表面形成微纳结构，能够进一步增加光学膜表面的疏水效果。
天眼查资料显示，合肥新美材料科技有限责任公司，成立于2023年，位于合肥市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本419064.1698万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥新美材料科技有限责任公司共对外投资了7家企业，财产线索方面有商标信息15条，专利信息2条。
本文源自：金融界
作者：情报员
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