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金融界2025年5月21日消息，国家知识产权局信息显示，瑞昱半导体股份有限公司申请一项名为“可用于曝光融合的曝光量控制方法”的专利，公开号CN120017982A，申请日期为2023年11月。
专利摘要显示，本发明提供一种可用于曝光融合的曝光量控制方法，包括：计算一长曝光图像的N种亮度中从一最低亮度起算的(N‑X)种亮度的像素的一长曝光亮度均值，其中该N种亮度中最亮的X种亮度的像素的总数为一长曝光亮区像素总数；当该长曝光亮度均值不接近一长曝光目标均值时，调整用于产生该长曝光图像的曝光量，使得这两个均值近似或相等；确定一短曝光图像的最亮的K个像素，其中该长曝光图像与该短曝光图像是同一场景的两个图像，该K等于该长曝光亮区像素总数；计算该K个像素的一短曝光亮度均值；以及当该短曝光亮度均值不接近一短曝光目标均值时，调整用于产生该短曝光图像的曝光量，使得这两个均值接近或相等。
本文源自：金融界
作者：情报员
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