北京
金融界2025年5月21日消息，国家知识产权局信息显示，光驰半导体技术（上海）有限公司申请一项名为“一种黑膜及其制备方法与应用”的专利，公开号CN120010039A，申请日期为2025年03月。
专利摘要显示，本发明提供了一种黑膜及其制备方法与应用，所述黑膜包括层叠设置的至少两层层叠膜层；所述层叠膜层包括层叠设置的吸收膜与介质膜；所述黑膜的顶部为介质膜，所述黑膜顶部的层叠膜层中的吸收膜与介质膜之间设置有至少一层阻水膜。本发明中通过在所述黑膜顶部的层叠膜层(光射入且暴漏于外部环境中的层叠膜层)中的吸收膜与介质膜之间设置有至少一层阻水膜，阻止了水汽对黑膜顶部的层叠膜层中吸收膜的侵蚀，从而增强了黑膜的耐水汽侵蚀性能，避免了黑膜在湿度较高的环境中发生的水失效；本发明提供的所述黑膜通过了双85环境测试，具有更广泛的适用范围。
天眼查资料显示，光驰半导体技术（上海）有限公司，成立于2021年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本13391.3043万人民币。通过天眼查大数据分析，光驰半导体技术（上海）有限公司参与招投标项目10次，专利信息40条，此外企业还拥有行政许可47个。
本文源自：金融界
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
