北京
金融界2025年5月6日消息，国家知识产权局信息显示，新毅东（北京）科技有限公司申请一项名为“曝光系统及其控制主板、光刻机”的专利，公开号CN119916652A，申请日期为2025年4月。
专利摘要显示，本发明公开了一种曝光系统及其控制主板、光刻机，属于光刻机技术领域。控制主板应用于光刻机中的曝光系统；曝光系统包括快门驱动组件、光辐射通量传感器、温度传感器和冷却片。控制主板包括：控制模块、第一模数转换模块和冷却片驱动模块；第一模数转换模块将光辐射通量传感器采集的曝光光束的辐射通量模拟信号转换为辐射通量数字信号；控制模块在根据辐射通量数字信号判定曝光光束的辐射通量达到预设辐射通量阈值时向快门驱动组件提供关断控制信号；冷却片驱动模块根据温度传感器检测到的温度信号和预设温度控制冷却片对光辐射通量传感器进行冷却，使光辐射通量传感器的温度与预设温度的差值小于允许温差阈值。本发明实施例可以提升曝光效果。
天眼查资料显示，新毅东（北京）科技有限公司，成立于2014年，位于北京市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本3589.4516万人民币。通过天眼查大数据分析，新毅东（北京）科技有限公司共对外投资了12家企业，参与招投标项目60次，财产线索方面有商标信息28条，专利信息99条，此外企业还拥有行政许可7个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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