北京
金融界 2025 年 5 月 5 日消息，国家知识产权局信息显示，安徽光智科技有限公司申请一项名为“3μm 短波低反射膜系的制备方法”的专利，公开号 CN119913460A，申请日期为 2025 年 1 月。
专利摘要显示，一种锗基底 2‑2.3μm 短波低反射膜系的制备方法包括步骤：S1，作为镜片的锗基底的陪镀片和产品清洁，陪镀片为圆片和楔形片；S2，镜片装入工装夹具，工装夹具挂入腔体；S3，抽真空，霍尔离子源清洗；S4，在镜片的第一面，按照 34.8nmSiO/64.3nmGe/52.2nmZnS/272.8nmSiO 顺序镀制各膜层，SiO 膜层和 Ge 膜层电子束加热蒸发，ZnS 膜层电阻加热蒸发，SiO 膜层的沉积速率为 0.6nm/s，Ge 膜层的沉积速率为 0.3nm/s，ZnS 膜层的沉积速率为 0.8nm/s，离子源辅助沉积；S5，腔体降温冷却，工装夹具连同镜片取出；S6，重复步骤 S1 至步骤 S5，在镜片的第二面镀制相同的膜系，其中，楔形片在重复步骤 S1 时不进行清洁以及在重复步骤 S2 时不放入工装夹具。
天眼查资料显示，安徽光智科技有限公司，成立于2018年，位于滁州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本90000万人民币。通过天眼查大数据分析，安徽光智科技有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目80次，财产线索方面有商标信息20条，专利信息816条，此外企业还拥有行政许可43个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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