北京
金融界2025年5月2日消息，国家知识产权局信息显示，深圳市昊兴科技有限公司取得一项名为“一种真空磁控溅射源靶材在真空中移动的装置”的专利，授权公告号CN 222795705 U，申请日期为2024年7月。
专利摘要显示，一种真空磁控溅射源靶材在真空中移动的装置，包括：真空隔离件，用于将真空和大气之间隔开；第一支架，设置在真空隔离件位于大气一侧；气压平衡组件，其一端安装在真空隔离件上另一端安装在第一支架上；位移动力组件，安装在第一支架上；第二支架，安装在位移动力组件上并同时嵌设在真空隔离件中；所述第二支架与真空隔离件之间设置有密封件第二支架设置有靶材位移动力组件用于带动第二支架及安装在第二支架上的靶材往复移动，从而改变靶材与待加工的镀膜工件之间的距离。通过位移动力组件带动靶材在真空环境中进行往复移动，可以有效改变靶材与镀膜工件之间的距离，实现更均匀的材料沉积，提高镀膜质量、膜层均匀性及靶材综合利用率。
天眼查资料显示，深圳市昊兴科技有限公司，成立于2007年，位于深圳市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市昊兴科技有限公司参与招投标项目2次，专利信息3条，此外企业还拥有行政许可5个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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