北京
金融界2025年4月19日消息，国家知识产权局信息显示，南轩（天津）科技有限公司取得一项名为“一种边缘抛光硅片吸附装置”的专利，授权公告号CN222768120U，申请日期为2024年7月。
专利摘要显示，本实用新型涉及硅片吸附设备技术领域，具体的说是一种边缘抛光硅片吸附装置，包括底座，所述底座顶端表面装配有用于支撑的滑筒，且滑筒外周表面螺合安装有用于连接的环套，所述环套顶端表面一体构造有用于硅片吸附的吸盘；在移动滑筒内侧的活塞时，能够使得伺服电机运作并在减速器运作下带动壳罩内侧的蜗杆进行旋转，蜗杆旋转着与蜗轮相互啮合并带动蜗轮进行转动，且由于丝杆不能够进行转动，从而使得蜗轮内周的螺纹与丝杆相互螺合并使其做升降位移运动，丝杆升降位移方便拉动滑筒内侧的活塞进行移动并方便在滑筒内侧产生负压，从而即可对吸盘表面放置的硅片进行吸紧限位，方便后续进行抛光工作，且全程电动化操作，更为省力且便捷。
天眼查资料显示，南轩（天津）科技有限公司，成立于2017年，位于天津市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本2500万人民币。通过天眼查大数据分析，南轩（天津）科技有限公司参与招投标项目15次，专利信息44条，此外企业还拥有行政许可13个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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