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金融界2025年4月5日消息，国家知识产权局信息显示，上海盛剑微电子有限公司申请一项名为“铜蚀刻液及其制备方法和蚀刻方法”的专利，公开号CN 119753686 A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本发明涉及蚀刻技术领域，具体而言，涉及铜蚀刻液及其制备方法和蚀刻方法，该铜蚀刻液的原料包括：过氧化氢、金属抑制剂、丙二酸、无机盐、螯合剂、氟化物、稳定剂、十二烷基苯磺酸钠；余量为水；铜蚀刻液的pH 为：1.5
天眼查资料显示，上海盛剑微电子有限公司，成立于2021年，位于上海市，是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本5000万人民币，实缴资本2960万人民币。通过天眼查大数据分析，上海盛剑微电子有限公司参与招投标项目1次，专利信息33条，此外企业还拥有行政许可7个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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