金融界2025年3月29日消息,国家知识产权局信息显示,通用汽车环球科技运作有限责任公司申请一项名为“用于在磁体晶界中均匀分布添加剂磁畴的方法和系统”的专利,公开号CN 119694698 A,申请日期为2023年11月。
专利摘要显示,一种在稀土磁体 中掺入添加剂磁畴的方法、一种用于在稀土磁体中掺入添加剂磁畴的系统、以及一种包括稀土磁体的牵引电机。将惰性气体和多个粗钕铁硼 (NdFeB)颗粒引入喷射磨机的 腔室中。使多个粗NdFeB颗粒 相互撞击 产生多个精炼 NdFeB颗粒。使多个精炼NdFeB颗粒还撞击包括靶材料的靶,并 使一部分靶材料转移到精炼NdFeB颗粒的表面上。将包括靶的 多个精炼NdFeB颗粒与多个粗NdFeB颗粒分离并收集,以形成稀 土磁体。
本文源自:金融界
作者:情报员
特别声明:以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布,本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.