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金融界2025年3月29日消息，国家知识产权局信息显示，通用汽车环球科技运作有限责任公司申请一项名为“用于在磁体晶界中均匀分布添加剂磁畴的方法和系统”的专利，公开号CN 119694698 A，申请日期为2023年11月。
专利摘要显示，一种在稀土磁体 中掺入添加剂磁畴的方法、一种用于在稀土磁体中掺入添加剂磁畴的系统、以及一种包括稀土磁体的牵引电机。将惰性气体和多个粗钕铁硼 (NdFeB)颗粒引入喷射磨机的 腔室中。使多个粗NdFeB颗粒 相互撞击 产生多个精炼 NdFeB颗粒。使多个精炼NdFeB颗粒还撞击包括靶材料的靶，并 使一部分靶材料转移到精炼NdFeB颗粒的表面上。将包括靶的 多个精炼NdFeB颗粒与多个粗NdFeB颗粒分离并收集，以形成稀 土磁体。
本文源自：金融界
作者：情报员
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