北京
金融界2025年2月13日消息，国家知识产权局信息显示，上海积塔半导体有限公司申请一项名为“用于监控外延膜厚的监控片及其制备方法”的专利，公开号CN 119400721 A，申请日期为2024年10月。
专利摘要显示，本发明提供一种用于监控外延膜厚的监控片及其制备方法，通过使掺杂层对红外光产生反射，使外延膜层对红外光产生透射，并使掺杂层的电阻率是外延于所述掺杂层上的外延膜层电阻率的1/3～1/2，从而在采用傅里叶变换红外光谱法来测量外延膜层的厚度时，可以精确测得外延膜层厚度，且避免使用重掺杂浓度的衬底层，大大降低了制作成本，解决了现有技术中用于监控外延膜厚的监控片成本较高费用昂贵的问题。
天眼查资料显示，上海积塔半导体有限公司，成立于2017年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1690740.3918万人民币，实缴资本1607601.0503万人民币。通过天眼查大数据分析，上海积塔半导体有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目1807次，知识产权方面有商标信息9条，专利信息921条，此外企业还拥有行政许可180个。
本文源自：金融界
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
