上海
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为完善集成电路布图设计保护制度，国家知识产权局开展了《集成电路布图设计保护条例》修改准备工作。在前期调研的基础上，经与相关部门沟通，形成了修改草案，现将《集成电路布图设计保护条例修改草案（征求意见稿）》及其起草说明予以公布，征求社会各界意见。
附件：1. 集成电路布图设计保护条例修改草案（征求意见稿）
2. 《集成电路布图设计保护条例修改草案（征求意见稿）》起草说明
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