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金融界2024年12月17日消息，国家知识产权局信息显示，上海微世半导体有限公司申请一项名为“一种立式化学气相沉积炉”的专利，公开号CN 119121198 A，申请日期为2024年9月。
专利摘要显示，本发明涉及一种立式化学气相沉积炉,包括立式炉管、设于炉管下方的可升降炉门、晶舟组件、翻转台组件、升降台组件、仓储区、暂存区、晶圆输送盒机械手组件和晶圆叉手组件；翻转台组件包括翻转台和驱动翻转台翻转的翻转驱动机构；所述翻转台设置至少一个固定晶圆输送盒的储位；升降台组件包括设于翻转台下方的升降台、水平设于升降台上的托辊、驱动托辊转动的转动驱动机构以及升降驱动机构。其优点是：仅能够实现自动平边整列，而且整列上料自动流水线作业，提高了生产效率。通过设计分别驱动的独立叉手和叉手组，实现了小批量试制时独立叉手单独伸出的功能，大批量生产时独立叉手和叉手组整体同步伸缩作业，不会降低生产效率。
本文源自：金融界
作者：情报员
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