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金融界2024年12月6日消息，国家知识产权局信息显示，拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司取得一项名为“汽化系统以及薄膜沉积设备”的专利，授权公告号 CN 222100142 U，申请日期为2023年10月。
专利摘要显示，本实用新型属于薄膜沉积制备技术领域，公开了一种汽化系统以及薄膜沉积设备，汽化系统包括用于储存液态前驱体的储源件、用于输出载气的载气件和汽化器；汽化器与储源件之间通过第一管路连通，第一管路安装有第一流量检测件，第一流量检测件用于检测通入汽化器的前驱体的流量，汽化器与载气件之间通过第二管路连通，汽化器用于通过第一管路接收前驱体，以及通过第二管路接收载气汽化器的输出口连通于反应腔室汽化器用于将液态的前驱体汽化为反应气体，将携带有反应气体的载气通入反应腔室。该汽化系统提高了对前驱体流量检测的准确性；同时避免出现烘焙汽化方法对控制阀、管路等结构造成的高温损坏的风险，提高了汽化系统的使用寿命。
本文源自：金融界
作者：情报员
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