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金融界2024年11月21日消息，国家知识产权局信息显示，广东中图半导体科技股份有限公司取得一项名为“喷嘴装置及刻蚀机”的专利，授权公告号CN 222019779 U，申请日期为2024年1月。
专利摘要显示，本实用新型属于半导体设备技术领域，公开了一种喷嘴装置及刻蚀机。该喷嘴装置包括反应腔和喷嘴组件，反应腔的腔口盖设有石英盖；喷嘴组件穿设于石英盖的中心处，喷嘴组件包括固定环体和滑动环体，固定环体的一端插设于石英盖的圆形凹槽内，滑动环体转动穿设于固定环体内，且滑动环体的一端穿过石英盖伸入反应腔内，滑动环体的该端的外周面沿周向均匀设置有多个石英管，石英管和滑动环体的内腔连通，石英管的周壁设有多个沿轴向间隔分布的出气孔，出气孔朝向反应腔的底壁或侧壁。本实用新型提供的刻蚀机包括上述喷嘴装置，该喷嘴装置能使晶片表面的刻蚀速率更加均匀，并有效减少晶片表面的颗粒数量，提高良率。
本文源自：金融界
作者：情报员
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