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金融界2024年11月15日消息，国家知识产权局信息显示，浙江大华技术股份有限公司申请一项名为“一种优化对焦曲线的方法、装置、设备及介质”的专利，公开号CN 118945471 A，申请日期为2024年10月。
专利摘要显示，本申请实施例公开了一种优化对焦曲线的方法、装置、设备及介质，通过对第一典型物距下的待优化对焦曲线进行平滑处理，去除了待优化对焦曲线的多余拐点，并且验证平滑处理后其它典型物距下的对焦曲线也是否去除了多余拐点以及验证每个期望对焦曲线的有效性，最终确定优化后的对焦曲线。从而有效的解决了多变焦群组机芯镜头的对焦曲线中拐点多，而影响电机的实际驱动控制以及影响镜头寿命的问题。
本文源自：金融界
作者：情报员
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