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金融界2024年10月28日消息，国家知识产权局信息显示，应用材料公司申请一项名为“预备空间光调制器区段以解决场不均匀性”的专利，公开号CN 118818910 A，申请日期为2019年7月。
专利摘要显示，本公开内容涉及预备空间光调制器区段以解决场不均匀性。本公开内容的实施方式总体提供使用数字微镜装置(DMD)的改进的光刻系统和方法。DMD包括与基板相对设置的微镜的列和行。光束从微镜反射至基板上，产生图案化基板。微镜的列和行的某些子集可定位至“关闭”位置，使得这些子集废弃光，以便校正图案化基板中的均匀性误差，即，比期望的大的特征。类似地，微镜的列和行的某些子集可默认为“关闭”位置并且选择性地允许这些子集返回到它们的编程位置，以便校正图案化基板中的均匀性误差，即，比期望的小的特征。
本文源自：金融界
作者：情报员
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