超黑纳米技术的替代和超越

　　与传统黑色消光工艺，包括阳极氧化、喷涂涂料、电泳电镀、化学发黑、光学减反AR等相比较，超黑纳米镀膜在各方面都有较大优势，实现了替代、突破和全面超越。

　　总半球反射率对比：

　　超黑纳米镀膜：有更低的反射率，低至1%以下，特别在红外波段优势明显。

　　传统工艺：反射率很难做到5%以下，无超黑效果，特别在红外波段效果更差。

　　薄膜材料特性对比：

　　超黑纳米镀膜：纯无机材料，可在各种高低温环境下使用，无任何挥发物释放，可以超亲水，也可以超疏水。

　　喷涂油漆电泳等传统工艺：含大量有机物，容易释放各种杂质气体，在特定高低温下会变质失效掉渣，且无疏水能力。

　　制备环境、成膜特点对比：

　　超黑纳米镀膜：高真空、高能量分子团沉积，附着力好，厚度1-6微米，精度高，密度小重量轻，在各种形状工件上都均匀一致，也没有边沿和尖端堆积，而且，在几乎任何素材上都有良好的结合力，和一致的光学吸收特性。 喷涂、氧化或电泳等传统工艺：大气环境或液体环境下低能量大颗粒堆积，20-60微米，密度高、质量大，且精度差、均匀性差，边沿堆积严重，结合力差，易脱落或掉渣，含有机挥发物，而且很难在玻璃陶瓷及柔性薄膜上制备，在不锈钢、钛合金、殷钢等材料上也附着力差，且反射率高，无法实现超黑效果。

　　与光学减反AR镀膜的对比：

　　目前市面上苹果华为等各大手机厂家的摄像头中使用了AR黑膜，它是依靠多层光学薄膜的膜厚控制来实现反射光抵消，其膜厚均匀性控制难度大，导致表面容易出现干涉颜色，发红发蓝发黄发彩外观不佳，特别是异形三维工件上基本无法使用。而且AR镀膜在红外波段吸收率非常低。 相反，超黑纳米镀膜工艺是依靠材料本身的优异吸光性能来达到无反射效果，超黑外观均匀一致，无任何干涉发彩，而且在红外波段也拥有一样的优异性能。

　　超黑纳米技术的应用

　　超黑纳米镀膜技术相比传统黑色工艺有巨大的优势，超黑技术的成熟和批量应用一定会在多领域逐渐淘汰传统黑色工艺的使用，必将给产品带来更好的品质，必将提高用户的市场竞争力。目前，超黑纳米镀膜已经在镜头与成像、精密光学仪器、医疗器械、机器视觉、光电光热、显示、航天与特殊领域、半导体制造等领域开始了批量应用。

　　航天卫星与特殊领域

　　航天卫星与特殊领域对可见光隐身、对微弱光线的探测观察、高精度成像、对红外光的利用，都有非常高的要求，特别在太空的真空及各种恶劣环境下，对成像、探测、传感等都提出了极高要求。目前，在世界范围内只有超黑纳米镀膜工艺能够有效满足此类要求，而这也正是一个典型的卡脖子技术。