凭一国之力造出光刻机，意味着什么？或将成第四次工业革命引领者

一直以来，中国都试图摆脱“制造大国”的标签。

而如今，各个行业的发展，都表明中国在这个方面的努力程度，但是，唯独半导体行业，却依旧被美西方泼冷水。

“就算把光刻机图纸给中国，也造不出来光刻机。”这是全球最大、最先进的光刻机制造商阿斯麦CEO在1988年的国际芯片展上的傲慢之词。

言语之中，尽是对我国半导体行业光刻机的发展，但如今我国已经能够独立造出光刻机。

这在美西方对华芯片制裁之下，称得上“奇迹”，甚至被人称赞“有可能会引领第四次工业革命”。

中国光刻机的研发生产现状如何？与国外对比又有何差距？能否担得起“第四次工业革命引领者”的美名呢？

行业标杆也是从有到无

1961年，美国GCA公司制造出了第一台光刻机。

这是全球半导体行业中的历史性时刻，标志着光刻成为晶片制造中最重要的环节。

这也是可以预见的，毕竟美国作为三次工业革命的主要阵地，能继续在计算机领域有突破性的进展，也在情理之中。

但是，美政府想不到，由美企业打开的半导体行业的大门，却由他国企业鸠占鹊巢。

它就是荷兰的阿斯麦。

在20世纪初，阿斯麦的前身，荷兰皇家飞利浦公司成立研究实验室，先后在X射线和收音机技术方面有了突破性进展后，盯上了由美国光刻机生产的芯片。

那是一个焊接和集合了各种电子元件的芯片，是被时任飞利浦实验室分部主任的哈伊曼带回了实验室。

要想超越敌人，就要理解对方的招数。这与我国《孙子兵法》中“知己知彼百战百胜”相同。

很快，飞利浦实验室宣布成立半导体研究团队，并且得到一个死命令“必须制作出一个芯片”。

恐怕，当时的美国对荷兰的态度，也是“就算给你解释芯片如何生产，你也造不出来”。

现实也确实残酷，因为从零开始，这支飞利浦半导体研究团队根本无从下手，只能在1963年向美国GCA购买了最新一台接触式掩模的光刻机，以便研究及“借鉴”。

四年后，荷兰的第一台光刻机产生。

这之后，美国 GCA与荷兰飞利浦公司，算是“当面锣、对面鼓”地成了竞争对手。

说句题外话，估计美国也非常后悔贸然向荷兰提供原材料，让其在技术土坡上一骑绝尘，这或许也是美高举“霸权思想”对他国实施技术制裁时，毫无下限地全面封锁的原因。

1984年，飞利浦与荷兰本土的半导体新星ASM（先进半导体材料公司）合资建立ASML（阿斯麦公司）。

之后，阿斯麦在半导体行业内开始了突破性的发展。

可是，或许连阿斯麦自己也没有想到，最初与美企一争高下，但渐渐还是变成了美政府的一个工具。

2018年，在美国加大对中国的芯片制裁过程中，阿斯麦担任了重要角色。

其实，对于西方世界，或整个外部世界而言，对中国的印象依旧停留在腐朽的晚清与惨遭他国入侵的抗争年代。

他们没有预想过，新中国成立后会崛起与发展，即便想过，也没有想到速度之快，已经能走在技术水平前沿。

中国速度必将创造辉煌

2023年初，中科院光电技术研究所传出好消息：国内首台新型超分辨率光刻机已经通过验收并投入生产。

要知道，目前国际上仅有阿斯麦（ASML）几乎垄断了7纳米以下的极紫外（EUV）光刻机市场，其他国家和地区都要依赖它的供应和技术支持。

而我国自主研发的光刻机可以在不需要EUV光刻机的前提下，实现7纳米工艺，并且在此基础上，还可以实现5纳米工艺。

虽然存在良率与成本的调整意义重大，特别是为后续的技术进步奠定了基础。

可以理解为，我国的发展速度很快。

这从新中国成立初期的国防技术上就可以看出，航天、导弹以及航母，在如今的国际水平上，每一个领域都有我国自主研发且拿得出手的成就。

并且，早在2019年，我国提出“中国制造2025”，其中将“光刻机”自主研发作为重点突破领域。

不可否认，我国目前的光刻机市场上，仍有一半需要依靠阿斯麦，但是，我国光刻机的自主研发前景非常可观。

不用多举例，只从美国一直没有松懈对我国芯片的制裁上就可以看出。

但是，美国恐怕想不明白，越是对中国实施光刻机技术与原材料等全方面的封锁，而中国的光刻机发展就越有突破性发展。

值得一提的是，制造芯片和光刻机的重要材料——镓，在全球市场上，我国中国是最大的镓和锗生产国以及出口国，一年的产量就占到了全球总产量的95%以上。

再加上技术人员与研发资金的加成，相信我国一定会在光刻机领域上交出一份满意的答卷。

这种“万事俱备”之下，如果未来有第四次工业革命，我国成为领头羊的几率大大增加。

“落后就要挨打”这个历史教训，会始终推动着中国走向强大。