上海
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据悉，AGC表示，到2025年，集团在半导体用极端紫外线(EUV)曝光用光掩膜的生产能力将比现在增加约30%。另外，集团的AGC electronics公司设立了新的产线，2024年开始逐步增强规模。
目前投资额未公开。AGC表示，今后也将积极进行设备投资，预计2025年销售额力争达到400亿日元以上。此外，还通过增强产能满足高性能半导体生产扩大带来的EUV掩膜白兰度的需求，以及半导体制造工艺精密化所需的下一代产品的生产。
据了解，AGC于2017年开始生产EUV Mask blanks，2023年1月开始阶段性增强产能，近年来持续积极投资。
资料显示，EUV掩膜是在玻璃基板上放置多层膜的产品，在表面形成半导体芯片的电路原版，然后将电路转印到硅片上，从而形成半导体芯片。随着电路的精密化，EUV掩膜要求降低缺陷和表面平坦。
【CPCA印制电路信息】根据JACPA整理报道
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