外媒, ASML温克宁正式摊牌了

ASML温克宁撕下面具，表示中国自研光刻机等技术，是破坏全球半导体产业链的行为。此言一出，以往形象就崩了。

要知道，芯片规则修改后，ASML一直都在强调自由出货。

先是表示ASML对全球厂商一视同仁，将会向国内厂商出货其能够提供的一切技术，并拒绝了美游说，称光刻机使用美技术有限，对出货的影响也是有限的。

三方协议达成后，ASML率先透露着一消息，提醒厂商尽早下单，并明确表示1980Di型号的DUV光刻机将会持续出货。

温克宁参加中国发展高层论坛时，还明确表示，如果不是瓦森纳协定，中国将会成为EUV光刻机最大的市场。

然而，结束回国后，ASML温克宁就变脸了，直接表示中国自研光刻机等技术，是破坏全球产业链的行为。

对于温克宁这种行为，就有外媒表示ASML温克宁正式摊牌了。当然，摊牌的原因也很简单，主要是因为压力，而这个压力来自两个方面。

首先国内光刻机技术突破太快了。

全球只有四家企业可以生产制造光刻机，上海微电子就是其中之一，目前拿下了国内八成市场份额，全球四成的市场。

上海已经宣布，国产90nm光刻机取得了突破。据了解，该光刻机在多重曝光工艺下，可以将芯片制程缩小至22nm。

上海微电子28nm精度的光刻机已经取得技术验证。

要知道，ASML1980DiDUV光刻机的单次曝光精度为38nm,多次曝光可以实现7nm，一旦国内量产28nm精度的光刻机，ASML必然会遭遇重大损失。

因为ASML出货主力就是DUV光刻机，国产技术突破后，往往是物美价廉，自然会抢占ASML的市场，尤其是国内市场。

关键是，国内光刻机制造技术在快速进步，但ASML的光刻机技术遇到瓶颈，NAEUV光刻机将会最后一代，目前还没有找到更好的解决方法。

这意味着国内厂商每进步一点，与ASML的之间差距就缩小一点，这自然让ASML压力很大。

更何况，ASML主要收入来源就是靠销售光刻机，但芯片需求降低，光刻机需求也随之下滑，再加上，光电芯片、量子芯片已经开始成形，必然进一步导致需求降低。

其次，来自美荷的压力。

美一直都在限制ASML出货，通过修改芯片规则、游说、三方协议等，虽然AMSL一直拒绝，但不代表没有压力。

因为ASML的核心技术都是来自美，英特尔还是ASML最大的股东，台积电、三星也ASML的大股东，这两家企业基本上唯美是瞻。

美一直限制国内厂商发展半导体芯片技术，ASML自然是重点，其向ASML施压，让其表示中国自研光刻机等技术，是破坏全球产业链的行为，这也不奇怪。

因为ASML温克宁如此表态就是一种舆论施压。

最后，虽然ASML正式摊牌了，但也没啥，因为国内已经取得了不少突破，更在的突破也将到来。

无论是ASML怎样表态，国内厂商自研光刻机等先进设备的路子是不会变的，国内厂商也将会在芯片半导体领域内实现全面突破。