大家都知道,以目前的技术来看,光刻机仍然是芯片制造过程中不可或缺的设备,其重要性不言而喻。全球可以生产光刻机的厂商却寥寥无几,其中荷兰ASML“一家独大”基本上垄断了高端市场,日本的尼康和佳能在中低端市场也有一定的地位,而我国的上海微电子只能生产90nm工艺的光刻机。
不可否认,相比于ASML的EUV光刻机,上海微电子生产的光刻机确实微不足道。但要知道,这可是在老美严密“技术封锁”下的产物,其意义非常重大,至少证明中企也有实力完成自我救赎。
或许是因为看到我国半导体行业的进步,近期老美又制定了一项新的限制计划,那就是拉上日、荷两国达成不向中企出货任何规格光刻机的协议,包括DUV光刻机。要知道,此前中企不能从ASML手中采购EUV光刻机,而现在连DUV光刻机也将受到限制。
尽管ASML总裁曾向美发出警告,对中国半导体出口限制只会加速中国研发出自己的技术。拜振华却仍然一意孤行,为了遏制我国高科技的崛起,老美势要把“封锁”进行到底。对此,ASML总裁还预言,用不了多少年中国就能制造出能够与ASML匹敌的光刻机设备。
然而,随着两条消息的传来,似乎意味着ASML总裁的预言或将成真,同时也意味着拜登做梦也没有料到的事情正在发生。
特别声明:以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布,本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.