大家都知道，以目前的技术来看，光刻机仍然是芯片制造过程中不可或缺的设备，其重要性不言而喻。全球可以生产光刻机的厂商却寥寥无几，其中荷兰ASML“一家独大”基本上垄断了高端市场，日本的尼康和佳能在中低端市场也有一定的地位，而我国的上海微电子只能生产90nm工艺的光刻机。
不可否认，相比于ASML的EUV光刻机，上海微电子生产的光刻机确实微不足道。但要知道，这可是在老美严密“技术封锁”下的产物，其意义非常重大，至少证明中企也有实力完成自我救赎。
或许是因为看到我国半导体行业的进步，近期老美又制定了一项新的限制计划，那就是拉上日、荷两国达成不向中企出货任何规格光刻机的协议，包括DUV光刻机。要知道，此前中企不能从ASML手中采购EUV光刻机，而现在连DUV光刻机也将受到限制。
尽管ASML总裁曾向美发出警告，对中国半导体出口限制只会加速中国研发出自己的技术。拜振华却仍然一意孤行，为了遏制我国高科技的崛起，老美势要把“封锁”进行到底。对此，ASML总裁还预言，用不了多少年中国就能制造出能够与ASML匹敌的光刻机设备。
然而，随着两条消息的传来，似乎意味着ASML总裁的预言或将成真，同时也意味着拜登做梦也没有料到的事情正在发生。
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