中企传来消息：上海第一台光刻机即将投产

光刻技术的重要性不言而喻，光刻技术占据了整个芯片生产成本的三分之一，也就是一半的制作周期。所以，光刻机在芯片生产中是不可或缺的。

但世界上，能制造出这种机器的公司屈指可数，荷兰 ASML，日本尼康，佳能，上海微电子，都是国内最大的公司。近日，中企传来了一则新闻！上海第一台光刻机已成功运抵。

中企光刻设备成功进入

中企昆山同兴达是一家刚刚成立一年多的企业，隶属深圳同兴达集团。

深圳同兴达科技有限公司主要从事液晶显示模块、液晶显示模块、照相机模块的研发、设计、生产、销售，在驱动 IC应用上已有数年的经验，是国内液晶显示模块的行业领导者。

昆山和兴达在公司的新业务领域拓展，主要从事半导体/晶片的高端封装测试。该工厂是一座先进的半导体封装工程，预计三月份完成设备的试生产和试生产，五月正式投入生产。

为此，昆山公司向兴达公司采购了两部上海微电子光刻机，售价1800万元。这是一台金凸块封测光刻机，比起铜和锡凸块，金凸块的凸块更有优势。

该项目于明年八月投产后，可实现月产量20000片的全流程金凸块，产量位居国内前列。

最重要的是，这台机器是一台封测版的光刻机。光刻机按照不同的应用领域，可以分为前道光刻光刻机和后道光刻机。

封测光刻机与普通的光刻机不同，后道光刻的精度要比前道光刻要低得多，所以封测光刻机的制作要简单得多，上海微电子在封测光刻技术上是世界上最先进的。

上海微电子封装光刻机占据了80%的国内市场，占据了全球40%的市场。

上海微电子在十一月也发布了第一台高精度的2.5 D/3D封装的光刻机。在芯片设计、制造、测试三个方面，封测技术是目前国内规模最大的一个。所以，国内的封测技术，已经走在了世界的前列。

上海微电子怎样冲出国门

但最重要的，还是前道光刻机，这是我们现在最需要解决的问题。我们经常说的是光刻机，比如7 nm以下的 EUV,7 nm以上的 DUV。

上海微电子也有生产前道光刻机的能力，但距离 ASML这个光刻机巨头，还有很长一段路要走，到现在为止，还只有90 nm。不过，也不是没有希望，据说28 nm DUV光刻机，已经开始了新一轮的研发。

而且，根据相关人士的说法，28 nm的光刻机，正在研发和调试中。

最近，光刻机又引起了更多人的注意。国内芯片厂商的光刻机，一向是靠进口为主，虽然 ASML、尼康和佳能等公司都可以生产，但是尼康的中端 DUV数量很少，而佳能只是一个低端产品。

中企对光刻机的需求，大多都是从 ASML公司采购的，比如鼎泰匠芯、锐石创芯等中企，都有 ASML的订单。不过有个好消息，那就是在 EUV受到了限制之后， DUV光刻机将会受到限制。

于是，上海微电子的压力就转移到了 DUV身上，如果 DUV再次受到限制，那么他们就只能把希望寄托在国内的 DUV身上了。

从去年开始，关于光刻领域的好消息就一直在持续着。华为公布了光刻机技术的相关专利，北京国望公司光刻曝光系统的研究与量产已经取得了一定的进展，并已开始大规模生产。

华卓精科已经打破了 ASML的垄断，成为世界上第二个拥有双工件台技术的公司。科益红源在光源领域率先研制成功了第一个高能准分子激光。

上海微电子是国内最大的光刻机设备供应商，也是国内光刻机的总负责人。

光刻机的关键技术和关键技术的国产化将对国内光刻机的发展起到一定的促进作用。据了解，国内很多研究机构和公司的中坚力量都在帮助国内的光刻机装配和测试，相信很快就能有所突破。

光刻机的制造和应用，都是一个巨大的挑战，需要大量的时间、精力和金钱来完成，现在还在朝着自主研发的方向迈进，所以在这段时间里，他们必须要有足够的耐心和支持。

就算是 ASML的董事长，也说过，如果美国继续限制，那么中企就有能力生产出与之抗衡的光刻机！